氯化氫在合成設備中的形成流程要用到石墨降膜吸收器

    氯化氫在合成設備中的形成流程.我們知道，在生產過程中的合成并不像在實驗室制取一樣那么簡單，要考慮到很多方面的因素，一個是使用的反應物的量，另一個是反應條件，還有就是最后生成物的量，以及生成物的提純。

    經過計量的氯氣和氫氣進行流量調節，調節氯氣和氫氣的比值為1:1.04-1.10（體積比），送入二合一氯化氫石墨合成爐進行反應，反應生成的熱量通過合成爐夾套中的循環水帶走，反應生成氯化氫氣體，通過3.6米長的石墨套管冷卻器，氯化氫氣體溫度降到165℃以下，送入石墨冷卻器用循環水冷卻，冷卻后氯化氫氣體溫度降至45℃左右，通入機前深冷氣經冷凍水進一步冷卻到-20℃~-30℃脫水。

    冷凍后的氯化氫氣體經除霧器脫除氯化氫氣體中的霧滴后，經機前加熱器加熱到15-25℃后，進入氯化氫壓縮機使氯化氫氣體加壓到0.3-0.4Mpa，后經緩沖罐（V-103）緩沖進入氯化氫深冷器，氯化氫氣體冷卻到-15~25℃，脫除氯化氫氣體中的酸水，在進入V-105緩沖脫除氯化氫氣體夾帶的霧滴，氯化氫氣體經加熱的（E-106）加熱后進入流化床供流化床反應使用。

    一般的，這個過程是連續進行的，所以每個過程都是經過嚴格的計算和設計的，保證合成的順利進行。