氫氣與氯氣合成兩套相同的合成爐系統(tǒng)

利用氫氣在氯氣中不爆炸的條件下進行的方法來制，合成的主要方法和所用設(shè)備有如下 氯化氫合成是由兩套相同的合成爐系統(tǒng)，H2、CL2緩沖罐，事故排放接收設(shè)備組成（其中H2、CL2緩沖罐及事故排放裝置為兩套合成爐系統(tǒng)共用）。來自氯堿裝置的氫氣及從三氯氫硅合成工序返回的循環(huán)氫氣輸送入氫氣緩沖罐。出氫氣緩沖罐的氫氣分別去兩條生產(chǎn)線的氯化氫合成爐01R0301a。來自液氯汽化工序的氯氣穿過01V0302氯氣緩沖罐，分別去兩條生產(chǎn)線的氯化氫合成爐 01R0301a。    經(jīng)緩沖罐后的氯氣和氫氣分別經(jīng)過氯氣阻火器和氫氣阻火器，然后按一定的流量比進入氯化氫合成爐01R0301，在爐內(nèi)進行燃燒，生成氯化氫氣體，生成的HCL經(jīng)管道冷卻和水冷卻器（01E0301a\b），進入HCL緩沖罐（01V0303a\b），然后送到三氯氫硅合成工序。

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